特气设备特气柜在刻蚀气体三氟化氮（NF3）中的作用

特气系统是用于保证特种气体安全使用的系统，大致由特气设备、特种气体管道和使用终端三部分组成，其中，特气柜是特气系统的核心设备，关系着稳定输送气体、保证特种气体的使用安全和人员安全等功能。

三氟化氮（NF3），在微电子工业中是一种优良的等离子蚀刻气体，随着纳米技术和电子工业的飞速发展，其需求量也在日益增加。高纯三氟化氮（NF3）属于电子特气，毒性较强，人体直接接触会有很大的危险，这时，便需要电子特气柜这样的特种气体设备来保证气体的纯度和使用安全。

特气设备特气柜在刻蚀气体三氟化氮（NF3）中的作用

纯净的NF3气体是一种无色无味的气体，当混入一定量的杂质气体后颜色发黄，同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃，但能助燃。当温度超过350℃时，三氟化氮气体会缓慢分解，分解时产生强氧化性氟，因此，在高温下它是一种强氧化剂。

三氟化氮（NF3）是卤化氮中最稳定的无机化合物，可在钙的催化下由氨气与氟气制成。[1] 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂，半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。[2] 但由于三氟化氮属于温室气体，能加剧温室效应，因此有人认为应该限制这种化合物的使用。[3]

三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清洁剂”的角色，不过这类清洁剂是气态，而非液态。

在半导体中，薄膜制程的主要设备是“化学气相沉积”（CVD）机台，会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成分有可能是硅、二氧化硅或其他金属材料，但这些材料不仅会附着在芯片上，也附着在反应室内的墙壁上，内墙上的二氧化硅累积至相当数量，就会在反应室内形成微尘粒子（Particle），影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后，就要使用含氟的气体清洗，以去除内壁上的硅化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物，是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响，在排放含氟废气前，会以高温（摄氏700、800度才进行）将气体由有机转分解为无机，才不会破坏臭氧层。

三氟化氮的主要应用领域

特气柜设备主要应用作用

特气柜（Gas Cabinet ）是专为易燃易爆、腐蚀性、毒性等危险性气体供应而设计的供应系统，基本功能包括自动吹扫、自动切换以及紧急情况下的自动安全切断（当设定报警信号被触发时）。

特气柜（GC）通过采用PLC控制，触控屏为人机界面，通过设备安装的压力传感器、气动阀、过流量计等装置，实现设备安全有效的运行。其内部PLC程式设计的安全联锁功能和高纯阀件的合理选择和布局，既满足了半导体工艺生产过程中对特殊气体连续供给和高纯度的要求，同时也确保了工厂正常生产和员工人身安全。

特气柜主要用于特种气体的高纯度安全稳定输送，如：输送特种气体参与泛半导体行业集成电路制造的核心工艺流程：掺杂、光刻、刻蚀和CVD成膜工艺环节。

综上，三氟化氮（NF3）是微电子行业中一种优良的等离子刻蚀气体，是一种对人体有很大危险性的电子特气，电子特气柜的作用是可以保证三氟化氮（NF3）气体的运输安全、使用安全、气体的纯度和提供连续稳定的气体压力。感谢您的阅读！

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以上，便是特气设备特气柜在刻蚀气体三氟化氮（NF3）中的作用、特气柜的设计和气体管道要求，因为三氟化氮的危险特性，要选好特气设备（特气柜）和做好气体管道安装，这样无论你是否使用，你都是可以放心和安全的。感谢您的阅读！

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